目的
電磁場水処理装置アクアパルスを用いて、カルシウムスケール抑制効果を検証する。
試験方法
-
- 試験溶液(カルシウム濃度 1％ or 0.5％)を循環ポンプを用いて72時間循環しました。
2系列を同時に試験し、系列の一つを未処理、もう一方をアクアパルス処理(AP処理)として、試験前後の試験溶液のpH、電気伝導率、水温を測定しました。 - 72時間循環後、配管内のスケール付着確認として写真撮影実施、及び配管内に酸性溶液を満たし付着したスケールを溶解させ、回収した溶液中のカルシウムイオン濃度を測定しました。
- 試験溶液(カルシウム濃度 1％ or 0.5％)を循環ポンプを用いて72時間循環しました。
| 系列 | 配管材料 | 処理 | カルシウム濃度 | 循環時間 |
|---|---|---|---|---|
| 系列A | 塩ビ配管 | 未処理 | 1％ | 72時間 |
| 系列B | 塩ビ配管 | AP処理 | 1％ | 72時間 |
| 系列C | 塩ビ配管 | 未処理 | 0.5％ | 72時間 |
| 系列D | 塩ビ配管 | AP処理 | 0.5％ | 72時間 |
試験状況(循環の様子)
塩ビ配管・未処理
塩ビ配管・AP処理
試験結果
塩ビ配管内のスケール付着の様子
- 配管へのスケール付着量は、目視で確認できるほど差が生じており、AP処理を行うことでスケールの付着を抑制することが確認されました。
- 配管内に付着したスケールを酸性溶液で溶解させ、その水溶液中のカルシウムイオン濃度を測定した結果、AP処理を行ったB、Dの方が値は低くなる傾向となりました。
これはアクアパルスから発生した特殊電磁場の影響により炭酸カルシウムスケールの生成が抑制されたことによるものと考えられます。
| 系列 | 循環前 | 72時間後 | AP処理 | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| pH | 電気伝導率 (mS/cm) |
水温(℃) | pH | 電気伝導率 (mS/cm) |
水温(℃) | Caイオン濃度 (mg/L) |
||
| A | 3.68 | 21.30 | 33.3 | 6.50 | 19.10 | 31.7 | 1400 | - |
| B | 3.92 | 21.50 | 32.8 | 6.96 | 19.07 | 33.6 | 600 | 有 |
| C | 3.29 | 11.58 | 30.6 | 3.23 | 11.20 | 27.8 | 900 | - |
| D | 3.21 | 11.57 | 28.5 | 3.20 | 10.97 | 29.3 | 620 | 有 |